六盘水实验室反渗透设备生产厂家 采用离子交换技术

纯净水设备采用的是反渗透技术，以压力作为推动力去除水中的有机物、胶体、等杂质，在加上一定的预处理过程达到净水效果。预处理过程能够有效的去除水中的大颗粒等杂质，不但提高了设备的出水水质，还有效的保护了后面的反渗透膜，延长了使用的寿命。本文将介绍下纯净水设备的相关知识。
纯净水设备水质标准
电阻率：≥0.5MΩ.CM
电导率：≤2μS
氨：≤0.3μg/
硝酸盐：≤0.06μg/
重金属：≤0.5μg/
纯净水设备
纯净水设备
纯净水设备主要组成
纯净水设备主要组成一般包括预处理系统、反渗透装置、后处理系统、清洗系统和电气控制系统等。
预处理系统一般包括原水泵、加药装置、石英砂过滤器、活性炭过滤器、精密过滤器等。其主要作用是降低原水的污染指数和余氯等其他杂质，达到反渗透的进水要求。预处理系统的设备配置应该根据原水的具体情况而定。
纯净水设备反渗透装置主要包括多级高压泵、反渗透膜元件、膜壳(压力容器)、支架等组成。其主要作用是去除水中的杂质，使出水满足使用要求。
后处理系统是在反渗透不能满足出水要求的情况下增加的配置。主要包括阴床、阳床、混床、杀菌、超滤、EDI等其中的一种或者多种设备。后处理系统能把反渗透的出水水质更好的提高，使之满足使用要求。
纯净水设备清洗系统主要有清洗水箱、清洗水泵、精密过滤器组成。当反渗透系统受到污染出水指标不能满足要求时，需要对反渗透进行清洗使之恢复。
电气控制系统是用来控制整个反渗透系统正常运行的。包括仪表盘、控制盘、各种电器保护、电气控制柜等。
纯净水设备图片
纯净水设备图片
纯净水设备特点
1、纯净水设备设计简单。电除盐的模块设计很容易把它的做到500吨/小时甚至更高。实用的设计对于电除盐系统，不管是维修还是增减设备的容量都是很容易的，必须要更换膜堆时，在现场只要花极少的停机时间就可以完成。
2、可连续生产，免除了使用混床过程中复杂的再生操作，减少了很多备用设备。
3、水质稳定，不会有普通混床那样的水质变化。
4、运行成本低，电除盐系统与各种混床相比，运营成本低在价格上有竞争性。
5、安装维修简便，电除盐装置允许通过对其它膜堆的重新分配而达到对某一个膜堆维修的要求，不改变系统的性能。

我们在设计每小时五吨双级纯净水设备时考虑到装置运行时，压力容器会根据具体压力情况有所伸长。所以当反渗透装置组件和管道固定时，需要特别注意不能限制容器正常膨胀，不然会引起压力容器翘曲，引起O型圈的密封泄漏。以下详细介绍5吨/小时双级纯净水设备设计方案。
每小时5吨双级纯净水设备特点
我公司生产双级纯净水设备采用进口配件率达到百分之九十以上，设备操作自动化程度高，当出现低压满水或高压满水会自动停机保护设备，我公司生产纯净水设备占地面积小，耗能低没污染，而且出水水质好，工艺简单易操作维护。
5吨双级纯净水设备品
该纯净水设备每小时产纯净水五吨，适合水源水质好的中型水厂使用。设备采用反渗透技术进行脱盐处理，去除水中钙镁铁铅汞等对人体有害的重金属物质，于此同时降低了水的硬度，脱盐率可达百分之九十以上，生产出水可达到国家规定纯净水标准。
我公司主营业务：水处理设备、纯净水设备、软化水设备、锅炉软化水设备、纯水机、超纯水设备、水处理设备、反渗透设备、实验室超纯水设备、家用净水设备、EDI水处理设备、电子超纯水设备、直饮水设备、矿泉水生产设备、污水处理设备、生活污水处理设备、一体化污水处理设备、工业污水处理设备、电镀污水处理设备，中水回用设备、废水处理设备、工业废水处理、化工废水处理设备、印染废水处理设备、造纸废水处理设备、电镀废水处理设备、垃圾渗滤液处理设备、钻井废水处理设备等水处理设备及水处理设备配件、耗材供应价！

食品行业生产中要消耗大量的水，生产、清洁、工艺用水都有很严格的要求。尤其是生产用水的卫生质量是影响食品卫生质量的关键因素，更重要的是它会直接影响食品的品质、口感，甚至会使食品失去应有的气味和爽口感，异味、酸败、沉淀、浑浊等等现象也会发生。生产企业必须保证与食品接触的生产用水符合国家规定的要求。现对众多食品及所有饮料行业实施食品卫生安全许可证制度，规定所用工艺水及成品水均需要用净化后的水，通常是纯水。
1.根据当地水质特点，结合我公司多年水处理经验，选择工艺成熟、操作方便、运行操作费用低的反渗透水处理系统，采用预处理+反渗透工艺。
2.反渗透工艺流程：原水---增压泵---多介质过滤器---活性碳过滤器---软化器---精密过滤器---高压泵---反渗透系统---纯水箱---紫外线杀菌器---用水点。
3.工艺简介
3.1 水源情况
水源为自来水，有以下特点：
1）胶体、有机物和悬浮物较多----应采用全自动的过滤吸附作为预处理工艺，才能保证反渗透的进水水质和稳定运行，超滤出水的污染指数SDI一般可达到5以下。
2）含盐量略高----采用反渗透工艺进行一级除盐，后续的第两级反渗透脱盐进行深度除盐，以达到用水的水质要求。
3.2 原水箱
原水箱作用储水保证系统供水，配有液位浮子开关。
3.3 原水泵
给预处理部分提供稳定的压力。
3.4 预处理装置
3.4.1 石英砂过滤器
它的作用是滤除原水中的细小颗粒、悬浮物、胶体、藻类等杂质，主要滤层采用0.5—1.2石英砂，过滤速度为8～10米/小时。
3.4.2活性炭过滤器
主要作用是利用的果壳活性炭的吸附能力，去除原水中的余氯，同时也吸附水中有机物、胶体物质、微生物、嗅味等。
经验数据表明，1kg活性炭，可使18—30吨符合标准的城市自来水，经吸附，保证其余氯指标不大于0.1mg/L，这也就是活性炭的设计依据，活性炭罐也需定期反冲洗，故对活性炭的硬度有要求，我们是采用果壳活性炭，其碘值要求在900mg/g以上。 型号：TLQ－500 过滤能力：2m3/h 过滤速度：11m/h 材质：玻璃钢 数量：1台
3.4.3软化器
主要是去除水中硬度离子，采用离子交换去除硬度离子。
3.5精密过滤器
为保证进水要求，必须设置精密过滤器。本系统中，设置了一级精滤，滤芯微孔直径5μm，防止5μm以上的微粒进入反渗透膜。使用一段时间后，由于污染物质的截留，使精密过滤器进出口的压差，可观察进出口压力差，定期更换滤芯。 精滤器采用不锈钢筒体，滤芯采用熔喷式滤芯（价格低、截留效果好）。 型号：40×800 规格：20”、5μm
3.6 絮凝剂加药装置
在石英砂过滤器之前，设一套投加絮凝剂装置，其目的是使原水经絮凝后，将原水中微小的悬浮物凝聚成团状物质，便于过滤，使水质更好，终保证进反渗透的进水污染指数不大于4。依据我们的经验，不投絮凝剂，很难满足上述要求。絮凝剂采用有机絮凝剂，一般投加量在1—2ppm（即一吨原水，投加1—2克），费用较低。 本加药系统设置1台美国帕斯菲达公司的电磁隔膜计量泵。
3.7阻垢剂加药装置
为了在较高回收率情况下防止反渗透浓水端特别是反渗透压力容器中后一根膜元件的浓水侧出现碳酸盐、盐和Ca2+、Mg2+离子的化学结垢，从而影响膜元件的性能，在反渗透进水前需要加入阻垢剂。本系统选用美国生产的阻垢剂，该药剂是一种分散型隐蔽剂，其作用如下：
1.阻垢效能高，不加酸的条件下，原水LSI指数允许值为2.8，在此范围内可有效的控制无机物结垢。
2.主要成分为含磷小分子有机物，在水中性质稳定，不易分解产生具有微生物营养的正磷酸盐营养物，排放后也不会对环境产生污染。
3.为的分散剂，可控制铁、铝及重金属污染，也可以对堵塞膜微孔的铁胶体和细小颗粒起到分散作用。
3.8 反渗透装置
反渗透是目前水处理系统设备中应用广泛的一种脱盐技术，具有极高脱盐能力，且运行安全、灵活，操作简单。反渗透系统包括高压泵、反渗透膜组、清洗系统及控制仪表五部分。
3.8.1 高压泵
高压泵为反渗透膜组提供足够的进水压力，维持反渗透膜的正常运行。反渗透设有一台不锈钢多级高压泵。
3.8.2 反渗透膜组件
反渗透是整个脱盐系统的执行机构，其作用是脱除水中的可溶性盐份、胶体、有机物及微生物。反渗透出力15M3/H，回收率为75%，年的脱盐率不低于98%。
3.8.3 投加碱装置
由于反渗透出水pH值有所降低，所以在一级出水加碱，调节产水的pH。此装置根据工艺实际情况而定，如果pH值能满足要求可以不开启。

水质：出水水质>15MΩ.cm
用途:半导体、集成电路芯片及封装、液晶显示、高精度线路板、光电器件、各种电子器件、微电子工业、大规模、超大规模集成电路需用大量的高纯水、超纯水清洗半成品、成品。集成电路的集成度越高，对水质的要求也越高。目前我国电子工业部把电子级水质技术分为五个行业标准，分别为18MΩ.cm、15MΩ.cm、10MΩ.cm、2MΩ.cm、0.5MΩ.cm，以区分不同水质。  超纯水设备,超纯水设备,硅片超纯水设备
    半导体（semiconductor），指常温下导电性能介于导体与绝缘体之间的材料。半导体材料很多，按化学成分可分为元素半导体和化合物半导体两大类。锗和硅是常用的元素半导体；化合物半导体包括Ⅲ-Ⅴ族化合物：化镓、磷化镓等；Ⅱ-Ⅵ族化合物：硫化镉、硫化锌等；氧化物：锰、铬、铁、铜的氧化物，以及由Ⅲ-Ⅴ族化合物和Ⅱ-Ⅵ族化合物组成的固溶体：镓铝、镓磷等。除上述晶态半导体外，还有非晶态的玻璃半导体、有机半导体等。
光电材料生产、加工、清洗；液晶显示屏、离子显示屏、灯管显像管、微电子工业、FPC/PCB线路板、电路板、大规模、超大规模集成电路需用大量的高纯水、超纯水清洗半成品、成品。集成电路的集成度越高，对水质的要求也越高，这也对超纯水处理工艺及产品的简易性、自动化程度、生产的连续性、可持续性等提出了更加严格的要求。
半导体超纯水设备，超纯水设备，超纯水处理设备，我们公司生产反渗透＋EDI超纯水设备，有多年的生产经验，做过各行业的水处理设备，水处理方面我们有丰富的经验。
半导体超纯水设备制备工艺：
1、预处理系统→反渗透系统→中间水箱→粗混合床→精混合床→纯水箱→纯水泵→紫外线杀菌器→抛光混床→精密过滤器→用水点（≥18MΩ.CM）(传统工艺) 
  　 2、预处理→反渗透→中间水箱→水泵→EDI装置→纯化水箱→纯水泵→紫外线杀菌器→抛光混床→0.2或0.5μm精密过滤器→用水点（≥18MΩ.CM）(工艺) 
　　3、预处理→一级反渗透→加药机（PH调节）→中间水箱→第二级反渗透（正电荷反渗膜）→纯水箱→纯水泵→EDI装置→紫外线杀菌器→0.2或0.5μm精密过滤器→用水点（≥17MΩ.CM）(工艺) 
　　4、预处理→反渗透→中间水箱→水泵→EDI装置→纯水箱→纯水泵→紫外线杀菌器→0.2或0.5μm精密过滤器→用水点（≥15MΩ.CM）(工艺) 
　　5、预处理系统→反渗透系统→中间水箱→纯水泵→粗混合床→精混合床→紫外线杀菌器→精密过滤器→用水点 （≥15MΩ.CM）(传统工艺)
水质标准：
半导体超纯水设备，超纯水设备，超纯水处理设备出水水质符合美国ASTM纯水水质标准、我国电子工业电子级水质技术标准（18MΩ.cm、15MΩ.cm、10MΩ.cm、2MΩ.cm、0.5MΩ.cm）我国电子工业超纯水水质试行标准、半导体工业用纯水指标、集成电路水质标准。
半导体超纯水设备，超纯水设备，超纯水处理设备的应用领域：
电解电容器生产铝箔及工作件的清洗；　 超纯水设备,超纯水设备,硅片超纯水设备
电子管生产、显像管和阴极射线管生产配料用纯水；
黑白显像管荧光屏生产、玻壳清洗、沉淀、湿润、洗膜、管颈清洗用纯水；
生产液晶显示器的屏面需用纯水清洗和用纯水配液；
晶体管生产中纯水主要用于清洗硅片；
集成电路生产中高纯水清洗硅片；
半导体材料、器件、印刷电路板和集成电路用纯水；
半导体材料、晶元材料生产、加工、清洗；
显像管、萤光粉生产；
汽车、家电表面抛光处理。
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