黔东南反渗透纯水设备制造厂 大流量处理能力

设备介绍
超滤水处理系统(UF) 通常作为预处理用，不过也有直接作为终端过滤净化水用，比如做矿泉水的，都可以采用超滤工艺，像一般的河水，湖泊水处理，经过过滤器后也可进入超滤进行进-步的净化水质。
超滤矿泉水设备
超滤技术是去除水中悬浮物、原水动物、、和部分胶体的过滤方法。这一技术是保证饮水安全的重要手段，目前多的还是体现在工业水处理中，无论是做纯水还是废水，超滤都占据不可替代的位置。
而近几年国内超滤膜的生产工艺也是不断提高，在满足用户需求的情况下也成本也同时在降低。超滤膜有分为4寸(UF90)、6寸(UF160) 、8寸(UF200)、10寸(UF250) ，不同尺寸的超滤膜它的产水量也不一样，通常设计单位会根据用户需求以及其原水水质情况来选用不同型号不同尺寸的膜，虽然超滤具有除悬浮物，等的作用，但是无论是自来水或是其它水体都需要配备预处理，以保证超滤膜的性能及使用寿命。
超滤的预处理一般都是石英砂过滤器、混凝、活性炭过滤器、保安过滤器等等。具体工艺过程说明如下:
1、石英砂/锰砂过滤器
性能:采用多层不同粒径的石英砂滤料以能除去原水中较大颗粒的悬浮物、泥沙、杂质等降低水的混浊度。使水中的有机物质、、等随着浊度的降低而大量去除;锰砂滤器能有效降低进水的硬度。
特点:罐体采用玻璃纤维钢材料，耐酸碱腐蚀。手动控制过滤器的反洗、正洗与运行。
超滤矿泉水生产设备
2.活性炭过滤器
活性炭过滤器主要是用来吸附水中的余氯，保证产水无余氯，还能部分去除或降低水中的色、嗅、味、有机物、重金属和农药残留等有害物质。通常其过滤精度为100μm左右，出水浊度≤5NTU。
3、精密过滤器
内部填充PP棉滤芯，过滤孔径5μm,去除水中固体物质，减少杂志对渗透膜的划伤。
4、超滤设备
超滤膜可用于除去水中的悬浮微粒、胶体、微生物等。在水压的作用下水分子及小分子物质透过超滤膜，水中的悬浮微粒、胶体、微生物等则被截留在超滤膜的内表面。由于绝大多数和微生物的直径都大于0.1微米，比超滤膜孔径大10倍以上，因此超滤膜能有效截留、等，从而产水水良。
5、反洗
经过一段时间的过滤，超滤膜上截留物会越来越多，为了维持超滤组件产水量的稳定，要定期进行水反洗/化学加强反洗，通过反洗使超滤膜产水通量得以恢复，使设备稳定运行。

水质：出水水质>15MΩ.cm
用途:半导体、集成电路芯片及封装、液晶显示、高精度线路板、光电器件、各种电子器件、微电子工业、大规模、超大规模集成电路需用大量的高纯水、超纯水清洗半成品、成品。集成电路的集成度越高，对水质的要求也越高。目前我国电子工业部把电子级水质技术分为五个行业标准，分别为18MΩ.cm、15MΩ.cm、10MΩ.cm、2MΩ.cm、0.5MΩ.cm，以区分不同水质。  超纯水设备,超纯水设备,硅片超纯水设备
    半导体（semiconductor），指常温下导电性能介于导体与绝缘体之间的材料。半导体材料很多，按化学成分可分为元素半导体和化合物半导体两大类。锗和硅是常用的元素半导体；化合物半导体包括Ⅲ-Ⅴ族化合物：化镓、磷化镓等；Ⅱ-Ⅵ族化合物：硫化镉、硫化锌等；氧化物：锰、铬、铁、铜的氧化物，以及由Ⅲ-Ⅴ族化合物和Ⅱ-Ⅵ族化合物组成的固溶体：镓铝、镓磷等。除上述晶态半导体外，还有非晶态的玻璃半导体、有机半导体等。
光电材料生产、加工、清洗；液晶显示屏、离子显示屏、灯管显像管、微电子工业、FPC/PCB线路板、电路板、大规模、超大规模集成电路需用大量的高纯水、超纯水清洗半成品、成品。集成电路的集成度越高，对水质的要求也越高，这也对超纯水处理工艺及产品的简易性、自动化程度、生产的连续性、可持续性等提出了更加严格的要求。
半导体超纯水设备，超纯水设备，超纯水处理设备，我们公司生产反渗透＋EDI超纯水设备，有多年的生产经验，做过各行业的水处理设备，水处理方面我们有丰富的经验。
半导体超纯水设备制备工艺：
1、预处理系统→反渗透系统→中间水箱→粗混合床→精混合床→纯水箱→纯水泵→紫外线杀菌器→抛光混床→精密过滤器→用水点（≥18MΩ.CM）(传统工艺) 
  　 2、预处理→反渗透→中间水箱→水泵→EDI装置→纯化水箱→纯水泵→紫外线杀菌器→抛光混床→0.2或0.5μm精密过滤器→用水点（≥18MΩ.CM）(工艺) 
　　3、预处理→一级反渗透→加药机（PH调节）→中间水箱→第二级反渗透（正电荷反渗膜）→纯水箱→纯水泵→EDI装置→紫外线杀菌器→0.2或0.5μm精密过滤器→用水点（≥17MΩ.CM）(工艺) 
　　4、预处理→反渗透→中间水箱→水泵→EDI装置→纯水箱→纯水泵→紫外线杀菌器→0.2或0.5μm精密过滤器→用水点（≥15MΩ.CM）(工艺) 
　　5、预处理系统→反渗透系统→中间水箱→纯水泵→粗混合床→精混合床→紫外线杀菌器→精密过滤器→用水点 （≥15MΩ.CM）(传统工艺)
水质标准：
半导体超纯水设备，超纯水设备，超纯水处理设备出水水质符合美国ASTM纯水水质标准、我国电子工业电子级水质技术标准（18MΩ.cm、15MΩ.cm、10MΩ.cm、2MΩ.cm、0.5MΩ.cm）我国电子工业超纯水水质试行标准、半导体工业用纯水指标、集成电路水质标准。
半导体超纯水设备，超纯水设备，超纯水处理设备的应用领域：
电解电容器生产铝箔及工作件的清洗；　 超纯水设备,超纯水设备,硅片超纯水设备
电子管生产、显像管和阴极射线管生产配料用纯水；
黑白显像管荧光屏生产、玻壳清洗、沉淀、湿润、洗膜、管颈清洗用纯水；
生产液晶显示器的屏面需用纯水清洗和用纯水配液；
晶体管生产中纯水主要用于清洗硅片；
集成电路生产中高纯水清洗硅片；
半导体材料、器件、印刷电路板和集成电路用纯水；
半导体材料、晶元材料生产、加工、清洗；
显像管、萤光粉生产；
汽车、家电表面抛光处理。

超纯水设备系统在半导体晶片制造过程中重起到至关重要的作用。在一个生产周期内，一个晶片与超纯水的接触超过35次，在任何一个环节发生供水中断或者水质不合格都会影响晶片的质量，甚至导致产品的报废。水处理之家网认为，稳定可靠的超纯水设备系统是保障半导体晶片可持续生产的关键。
一、半导体晶片超纯水设备系统简介
本方案以半导体晶片生产用超纯水设备系统为案例，详细讲解205T/H的超大型超纯水设备系统设计特点、工艺流程、超纯水供水网管设计等。
对于原水中的各种杂质，可以选用的去除方式多种多样，每一种净化设备基于不同的净化原理，对各种杂质的去除效率各不相同，甚至某些设备在去除特定杂质的同时会引起其他杂质数值的上升。超纯水设备系统设计的过程就是在满足水质要求的前提下寻找一个投资与操作优化的净化设备组合方案的过程。不同净化设备对各种杂质的去除效率。对超纯水水质的指标要求：
二、半导体晶片超纯水设备系统设计特点
典型的超纯水设备系统流程可分为部分：预处理、初级制水、精制水。在全球水资源日益匮乏的今日，超纯水的回收再利用已经成为超纯水设备系统设计必不可缺的一部分。一般而言，经工艺机台使用的超纯水除了PH值，电导率，TOC等指标较差外，大部分指标都优于市政供水，只要有针对性地设计一些净化设备，完全可以将超过70％的超纯水供水回收再利用，达到节水环保的目的。当然，回收率越高，其设备投资及操作运行成本也越高。本系统的流程设计充分考虑到工程水质要求高，水量超过250吨小时的特点，各部分的设计兼顾经济性和可操作性，巧妙地将超纯水回收利用系统融合于制备系统。
三、半导体晶片超纯水设备系统工艺流程
自来水—加药—多介质过滤器—常压脱气塔—换热器—10μm过滤器—一级反渗透 —预处理水箱—活性炭过滤器—离子交换器—去离子水箱—紫外线杀菌灯—1μm过滤器—二级反渗透—中间水箱—去有机物紫外线—混床—0.45μm过滤器—膜脱气装置—纯水设备—冷却箱—去有机物紫外线—抛光床—超滤系统—输送管网—用水点
四、半导体晶片超纯水设备系统设计方案
预处理：
1.PAC、NaCl0加药：絮凝剂PAC有助于原水中的胶体粒子和悬浮固体凝集成易被多介质过滤器的大基团，而NaCl0具有杀菌，分解有机物的作用。
2.多介质过滤器：去除原水中经絮凝的胶体粒子和悬浮固体，可通过反冲洗再生。H，S0 加药，常压脱气塔：加H，S0 可将原水中的HC0 一生成C02在常压脱气塔中脱除，常压脱气塔是针对本工程大水量的特点而设计的，可以提高真空膜脱气的除氧效率，减少昂贵的脱气膜组的使用量。
3.热交换器：在冬季原水水温较低时使用热交换器加热反渗透进水以提高反渗透系统的除盐率，保证出水水质。
4.10 u m预过滤器：过滤颗粒杂质，保护反渗透膜。
5.一级反渗透：反渗透对除了溶解气体以外的大部分杂质都有较好的脱除效果。不同材质的反渗透膜操作条件不同，脱除杂质的效率也不同。醋酸纤维(CA)膜。醋酸纤维(CA)膜脱除率比复合(TFC)膜低，本设计用于一级反渗透，作为预处理阶段去除大量离子等杂质之用。反渗透膜需定期加药清洗以去除表面污染及结垢，保证反渗透效率并延长膜的寿命。
6.预处理水箱：储存一级反渗透产水，收集工艺机台使用过的回收纯水。
7.活性炭过滤器：表面具有无数10—10 A微孔的活性炭吸附预处理水尤其是回收纯水中的有机物，并通过反冲洗再生。
8.离子交换塔：离子交换塔包括阳离子树脂床和阴离子树脂床，主要为去除回收纯水中的各种阴阳离子，降低电导率而设计，同时可进一步纯化预处理水，保证水质离子交换树脂定时用酸碱再生后可反复使用。
初级制水：
1.去离子水箱：储存去离子水，调节和平衡预处理系统和初级制水系统的运行。
2.紫外线杀菌：波长254nm的紫外线灯可达到杀菌的作用。
3.1um过滤器：过滤颗粒杂质，保护反渗透膜。
4.二级反渗透： 采用复合(TFC)膜的二级反渗透可去除高达95％ 以上的各种离子和有机物。
5.中间水箱：储存二级反渗透产水，充普通氮气，隔绝空气，以保护水质不受污染。
6.去有机物紫外线： 波长1 85mm 的紫外线灯可分解有机物至二氧化碳和水。
7.混床：不同于离子交换塔中阴阳离子树脂，混床中使用的树脂可以在较低的离子浓度下获得很好的脱除效率，混床出水电阻率已达1 7M Q．cm以上，接近超纯水电阻率要求。
8.0.45um过滤器：去除去离子水中的颗粒杂质，并捕捉水中可能带出的破碎的混床树脂微粒，以保护膜脱气装置的脱气膜不受损害。
9.膜脱气装置：加真空氮气吹扫的膜脱气装置可保证产水中溶氧达到小于lppb的要求，与早期的真空氮气吹扫的填料塔相比，具有脱气率高，占空间小，节省氮气的优点。

超纯水设备在设计上采用成熟、可靠、的制水工艺，将双级反渗透、EDI和混床除盐相结合，保证经过设备处理后的水质电阻率得到18兆欧以上。超纯水设备采用PLC触摸屏控制，自动化程度、稳定性能高，与同类设备相比，具有更高的性价比和可靠性。
二、超纯水设备功用
(1)砂滤器，功用：初步去除水中泥沙、杂质、悬浮物以及其它微粒等降低水的浊度。
(2)碳滤器，功用：利用碳的吸附原理吸附水中异色、异味、余氯等。
(3)软水器，功用：置换水中钙镁离子，降低水的硬度。
(4)反渗透主机，功用：主要是通过反渗透过滤，达到生产纯水之目的。
(5)EDI系统(EDI系统优势)，功用：EDI系统又称连续电除盐技术，通过阳阴离子膜对阳阴离子的选择透过作用以及离子交换树脂对水中离子的交换作用，在电场的作用下实现水中离子的定向迁移，从而达到水的深度净化除盐，并通过水电解产生的氢离子和氢氧根离子对装填树脂进行连续再生。
(6)核能混床，功用：进一步提升水质，保证出水符合标准。
三、超纯水设备设计优势
(1)系统采用水处理技术双级RO+EDI+混床模块化设计，严格按设计标准，确保水质稳定，长效运行。
(2)通过技术设计，确保系统短时停机及长时间停机时水质保持稳定。
(3)通过技术保证终端出水恒压、水质稳定。
(4)通过完善的技术，限度的提高系统回收率，降低能耗和运行成本。
(5)采用ESPA2压膜，运行稳定，能耗低。
(6)采用PH调节系统以确保水温下降或原水PH值偏低时EDI出水水质。
(7)配备的有化学清洗系统，可定期对反渗透进行化学清洗，以确保系统稳定运行。
(8)配备浓水置换技术，防止膜系统受到微生物污染。
(9)EDI及后段出水采用超纯水管道，限度的保证出水水质。
(10)EDI水箱采用氮封装置，以确保终端水质稳定及延长核能混床寿命。
(11)采用PLC加触摸屏控制系统，并采用进口电气原件，操作方便，运行稳定。
(12)主题材料全部采用行业内国际，保质保量，并按配置设计。
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