黔西南实验室纯净水设备电话 预防水垢形成
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产品描述

加工定制 外形尺寸定制 水质超纯水 生产技术贵州鑫沣源环保 尺寸定制 机架304 质保1年免费,终身维护 管道CPVC/UPVC 材质304/UPVC 组装模块化 产水电阻率:≥10----18.25MΩ..CM/25℃ 安装调试包含 组合模块化 是否自动全自动 产水量0.25吨/小时至1000吨/小时 进水水质市政自来水或者井水 出水水质符合客户要求的纯水水质 电导率范围0.055µS/cm~10µS/cm 电阻率范围1MΩ·cm~18.2MΩ·cm(常温下20°C) 生产地贵州贵阳
反渗透膜法脱盐原理:
反渗透是膜法水处理的重要方式,它是除盐水、纯水、高纯水等制备的有效方法。它的核心技术是反渗透膜,该膜是一种用材料和加工方法制成的、具有半透性能的薄膜。它能够在外加压力的作用下使水溶液中的某些组分选择性透过,从而达到水体淡化、净化的目的。
反渗透水处理工艺基本上属于物理方法,它在诸多方面具有传统的水处理方法所没有的优异特点:
(1)反渗透是在室温条件下,采用无相变的物理方法得以使水淡化、纯化;
(2)依靠水的压力作为动力,其能耗在众多处理方法中;
(3)化学药剂量少。无需酸、碱再生处理;
(4)无化学废液及废酸、碱排放,无酸碱中和处理过程,无环境污染;
(5)系统简单、操作方便,产水水质稳定,两级反渗透可取得更高质量的纯水;
(6)设备占地面积少,需要的空间也小;
3、反渗透除盐系统的构成和功能:
(1)高压泵(本方案中选用南方泵业)
高压泵的设置是为了使反渗透的进水达到一定的压力,让逆渗透过程得以进行,即克服渗透压使水分子透过反渗透膜到达淡水层。
(2)反渗透膜组件和压力容器
反渗透装置可以去除水中绝大部分无机盐、微粒、、以及其他溶解性物质等。
本系统反渗透膜元件采用美国海德能公司生产的高脱盐率低压膜,材质为芳香族聚酰胺复合膜。
该膜元件的使用条件为:温度45oC,pH范围2.0—11.0,操作压力4.16MPa,压力损失为0.07 Map,进水污染指数SDI为5,进水浊度1.0NTU,进水余氯含量0.1ppm。
在正常使用的情况下,该膜元件的平均使用寿命为3-6年。
压力容器即为反渗透膜元件提供工作压力环境的外壳,本系统采用304不锈钢8"-3的压力容器,额定工作压力300PSI,即2.1Mpa,一根压力容器可以装3根反渗透膜元件,系统共设计5根压力容器。一级配置3根压力容器,呈2:1排列,系统产水量≥9T以上,回收率≥55%;二级配置2根压力容器,呈1:1排列,系统产水量≥6T以上,回收率≥70%;为了延长反渗透的使用寿命,一般建议低压、低回收率或标准模式下运行。
(3)自动冲洗装置:
反渗透在运行的过程中,浓缩过程和浓差极化将导致膜表面所接触原水的固含量浓度远远大于原水的本体浓度。因此配备自动低压冲洗装置在开机前、停机后对反渗透膜进行定时的低压冲洗,将附于膜表面的少量污染物冲走。冲洗完成后,系统自动恢复到正常运行状态。 反渗透装置设有自动低压冲洗装置,当反渗透开机时该装置自动发生冲洗膜的动作,以确保膜污染降到程度。
5、臭氧消毒系统:
为了保证产水的使用寿命,特设计一套水箱内循环臭氧消毒装置。能保证成品水3月内不滋生和变味。其由循环泵、射流装置、循环管路构成。
臭氧(O3)是氧的同素异形体,它是一种具有气味的淡蓝色气体。分子结构呈三角形,键角为116°,其密度是氧气的1.5倍,在水中的溶解度是氧气的10倍。臭氧是一种强氧化剂,它在水中的氧化还原电位为2.07V,仅次于氟(2.5V),其氧化能力高于氯(1.36V)和二氧化氯(1.5V),能破坏分解的壁,很快地扩散透进内,氧化分解内部氧化葡萄糖所必须的葡萄糖氧化酶等,也可以直接与、发生作用,破坏、核糖核酸(RNA),分解脱氧核糖核酸(DNA)、RNA、蛋白质、脂质类和多糖等大分子聚合物,使的代谢和繁殖过程遭到破坏。被臭氧杀死是由膜的断裂所致,这一过程被称为消散,是由于质在水中被粉碎引起的,在消散的条件下不可能再生。应当指出,与次氯酸类消毒剂不同,臭氧的杀菌能力不受PH值变化和氨的影响,其杀菌能力比氯大600-3000倍,它的灭菌、消毒作用几乎是瞬时发生的,在水中臭氧浓度0.3-2mg/L时,0.5-1min内就可以致死。反渗透膜元件,作为深层的过滤手段,其表面不可避免的会残留有胶体、微生物、杂质颗粒及难溶盐类在其表面的析出,因此,在多种领域使用的反渗透装置,一旦投入使用,终都需要清洗,只是清洗周期的长短不同而已。
通常情况下,根据污染情况的不同,反渗透清洗采用不同的清洗方式,其中包括在线清洗和离线清洗两种。
我公司为方便广大水处理设备新老客户,特研发生产膜(反渗透膜,纳滤膜,超滤膜)清洗设备,该设备尽可能的恢复膜的生产性能,为广大客户延长膜使用寿命,节省膜更换成本,为膜使用用户量身定制膜清洗装置。
本公司所有设备保证质量,保修1年,维护.
黔西南实验室纯净水设备电话
贵州纯水设备,带您了解反渗透纯水设备系统故障分类
我们在使用水处理设备期间,有很多因为不了解设备故障出现的原因而导致的其它问题想必大家都遇到过吧!其实,要想真正拥有这款设备,您一定要做好设备系统故障的了解。现对反渗透纯水设备系统故障做出诊断和排除,以下内容仅供参考!
系统故障的诊断和排除:
1、故障诊断:
反渗透纯水设备系统整体的故障由于故障原因的不同,表现出来的现象也不尽相同。当出现性能下降的征兆时,迅速及时的采取对策尤为关键,这样可以避免故障扩大。因此在日常通过记录数据,用图表的形式将参数标准化,会起到事半功倍的效果。
2、反渗透纯水设备膜元件性能检查:
元件性能的复查只能在膜元件解体前实施。即使在已经确认有污染成分时,也应该先测试膜元件的性能,然后再解剖膜元件分析污染物的组成,但是复测性能时可能导致污染物发生变化影响分析结果。因此我们希望能确保有两支样品,一支用于性能检查,另一支直接解体。
反渗透膜元件的性能测试中包含以下检测项目:真空保持检查和水密检测,可以确定平膜的破损和破损位置;用标准测试条件复测膜元件,对比脱盐率、产水量、压差的变化,可以判断膜破损、膜性能劣化、污染、流路堵塞和连接件是否接触不良。
3、反渗透设备故障的排除:
为了对污染物质进行推断并判断膜劣化的程度,需要进行化学清洗测试。从化学清洗的效果可以反推出污垢的种类。为了选择恰当的化学,可以解体反渗透膜元件,取平膜样品进行化学清洗测试。膜解体后的平膜样品可以做成Φ75毫米的样品,用化学试剂在常温下浸泡8小时,再和空白样品(纯水浸泡的膜片)一起进行平膜性能测试来判断化学清洗的效果,终确定有效的化学试剂,从而大致推断污染物的种类,进而可以被污染膜元件的清洗工作。
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水质:出水水质>15MΩ.cm
用途:半导体、集成电路芯片及封装、液晶显示、高精度线路板、光电器件、各种电子器件、微电子工业、大规模、超大规模集成电路需用大量的高纯水、超纯水清洗半成品、成品。集成电路的集成度越高,对水质的要求也越高。目前我国电子工业部把电子级水质技术分为五个行业标准,分别为18MΩ.cm、15MΩ.cm、10MΩ.cm、2MΩ.cm、0.5MΩ.cm,以区分不同水质。  超纯水设备,超纯水设备,硅片超纯水设备
    半导体(semiconductor),指常温下导电性能介于导体与绝缘体之间的材料。半导体材料很多,按化学成分可分为元素半导体和化合物半导体两大类。锗和硅是常用的元素半导体;化合物半导体包括Ⅲ-Ⅴ族化合物:化镓、磷化镓等;Ⅱ-Ⅵ族化合物:硫化镉、硫化锌等;氧化物:锰、铬、铁、铜的氧化物,以及由Ⅲ-Ⅴ族化合物和Ⅱ-Ⅵ族化合物组成的固溶体:镓铝、镓磷等。除上述晶态半导体外,还有非晶态的玻璃半导体、有机半导体等。
光电材料生产、加工、清洗;液晶显示屏、离子显示屏、灯管显像管、微电子工业、FPC/PCB线路板、电路板、大规模、超大规模集成电路需用大量的高纯水、超纯水清洗半成品、成品。集成电路的集成度越高,对水质的要求也越高,这也对超纯水处理工艺及产品的简易性、自动化程度、生产的连续性、可持续性等提出了更加严格的要求。
半导体超纯水设备,超纯水设备,超纯水处理设备,我们公司生产反渗透+EDI超纯水设备,有多年的生产经验,做过各行业的水处理设备,水处理方面我们有丰富的经验。
半导体超纯水设备制备工艺:
1、预处理系统→反渗透系统→中间水箱→粗混合床→精混合床→纯水箱→纯水泵→紫外线杀菌器→抛光混床→精密过滤器→用水点(≥18MΩ.CM)(传统工艺) 
    2、预处理→反渗透→中间水箱→水泵→EDI装置→纯化水箱→纯水泵→紫外线杀菌器→抛光混床→0.2或0.5μm精密过滤器→用水点(≥18MΩ.CM)(工艺) 
  3、预处理→一级反渗透→加药机(PH调节)→中间水箱→第二级反渗透(正电荷反渗膜)→纯水箱→纯水泵→EDI装置→紫外线杀菌器→0.2或0.5μm精密过滤器→用水点(≥17MΩ.CM)(工艺) 
  4、预处理→反渗透→中间水箱→水泵→EDI装置→纯水箱→纯水泵→紫外线杀菌器→0.2或0.5μm精密过滤器→用水点(≥15MΩ.CM)(工艺) 
  5、预处理系统→反渗透系统→中间水箱→纯水泵→粗混合床→精混合床→紫外线杀菌器→精密过滤器→用水点 (≥15MΩ.CM)(传统工艺)
水质标准:
半导体超纯水设备,超纯水设备,超纯水处理设备出水水质符合美国ASTM纯水水质标准、我国电子工业电子级水质技术标准(18MΩ.cm、15MΩ.cm、10MΩ.cm、2MΩ.cm、0.5MΩ.cm)我国电子工业超纯水水质试行标准、半导体工业用纯水指标、集成电路水质标准。
半导体超纯水设备,超纯水设备,超纯水处理设备的应用领域:
电解电容器生产铝箔及工作件的清洗;  超纯水设备,超纯水设备,硅片超纯水设备
电子管生产、显像管和阴极射线管生产配料用纯水;
黑白显像管荧光屏生产、玻壳清洗、沉淀、湿润、洗膜、管颈清洗用纯水;
生产液晶显示器的屏面需用纯水清洗和用纯水配液;
晶体管生产中纯水主要用于清洗硅片;
集成电路生产中高纯水清洗硅片;
半导体材料、器件、印刷电路板和集成电路用纯水;
半导体材料、晶元材料生产、加工、清洗;
显像管、萤光粉生产;
汽车、家电表面抛光处理。
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一、学校直饮水设备的概述
现在的学生由于觉得学校的水不卫生,养成了爱喝带甜味、带汽的饮料,不但容易使学生产生厌食厌水,长期下去还会使学生得营养缺乏症。学校直饮水设备彻底解决了学校用水的安全卫生问题。直饮水设备采用的反渗透技术净水,另水价低廉,方便食用,直饮水设备具有节能环保的特点,彻底清除生产、包装等不必要的浪费,利国利民。
二、学校直饮水的优点
1、采用进口逆渗透膜(RO膜,美国水质协会合格产品),运用目前国际上的逆渗透技术工艺制备纯水。
2、五级过滤,综合发挥各滤芯的有效作用,清除原水中的泥沙、悬浮物、胶体、有机物、重金属、可溶性固体、、、热源和其他有害物质,仅保留水分子和溶解氧。
3、采用进口静音高压泵,使用寿命长,运行质量可靠。
4、预处理滤芯采用可更换方式,可有效保证预处理效果,且更换方便,换芯价格经济,产水运行成本低。
5、具有高压冲洗逆渗透膜的功能,可有效延长RO膜的寿命。
6、制水过程自动控制,原水缺水停机,储水桶水满停机。
学校直饮水设备
三、学校直饮水设备的工艺流程
1、原水泵
原水泵是为原水预处理系统提供原水压力的作用。如果原水有压力就完全可以不用这个设备。一般要求原水压力>=0.3MP。
2、原水箱
原水箱的作用更简单,是储存原水用的。这是怕原水万一供不上作一个中转。
3、石英砂过滤器
这个设备主要是过滤水中的微生物、尘土使原水达到清澈的目的。
4、活性炭过滤器
该设备主要是过滤水中的余氯。
5、加药系统(阴阳离子交换系统)
以前本系统为阴阳离子交换系统,但是操作起来非常不容易且费工,费料。现在改为加药系统直接向里添加阻垢剂。
四、学校直饮水设备的日常维护注意事项
4.1 低压冲洗
定期对RO装置进行大、低压力、低ph值的冲洗有利于剥除附着在RO膜表面上的污垢维持膜性能或当进水SDI突然升高超过5.5以上时应进行低压冲洗待SDI值调至合格后再开机。
4.2停运保护
由于生产的波动,RO装置不可避免地要经常停运,RO短期或长期停用时必须采取保护措施,不适当地处理会导致膜性能下降且不可恢复。
短期保存适用于停运15d以下的RO系统可采用每1~3d低压冲洗的方法来保护RO装置。实践发现水温20℃以上时 ,RO装置中的水存放3d就会发臭变质有大量繁殖。因此建议水温高于20℃时每2d或1d低压冲洗一次,水温低于20℃时可以每3d低压冲洗一次,每次冲洗完后需关闭反渗透装置上所有进出口阀门。
长期停用保护适用于停运15d以上的系统,这时必须用保护液(杀菌剂)充入反渗透装置进行保护。常用杀菌剂配方(复合膜)为10%(质量分数)、异噻唑啉酮20mg/l、亚硫酸氢钠1%(质量分数)。
以前常用的杀菌剂配方是,因其具有便宜、易得的优点。但近来出于对环保和人体健康的考虑,异噻唑啉酮逐渐被重视但其在反渗透保护中的应用尚未见报道。
4.3化学清洗
在正常运行条件下,反渗透膜也可能被无机物垢、胶体、微生物、金属氧化物等污染这些物质沉积在膜表面上会引起反渗透装置出力下降或脱盐率下降、压差升高甚至对膜造成不可恢复的损伤,因此为了恢复良好的透水和除盐性能需要对膜进行化学清洗。
一般3~12个月清洗一次,如果每个月不得不清洗一次,这说明应该改善RO的预处理系统调整RO的运行参数。如果1~3个月需要清洗一次,则需要提高设备的运行水平,是否需要改进预处理系统较难判断。
http://www.gzxfyhjkj.com
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