都匀直饮水纯净水设备 提高饮用水质量

产品介绍
1吨反渗透纯化水设备利用膜工艺生产纯化水，不仅可以确保处理后的水完全达到药典规定的纯化水标准，而且对原水水质变化的适应能力强，避免了传统方法可能造成的环境污染，并能有效地降低水处理成本。
纯化水设备用于满足需求制取纯净水的设备。整个系统也都由全不锈钢材质组合而成，而且在用水点之前都必须装备杀菌装置。采用反渗透，EDI等工艺，比较有针对性地设计出成套高纯水处理工艺，以满足药厂、的纯化水制取、大输液制取的用水要求。
工艺设计
1.原水→原水增压泵→多介质过滤器→活性炭过滤器→软水器→精密过滤器→反渗透系统→中间水箱→中间水泵→离子交换器→纯化水箱→纯水泵→杀菌消毒→微孔过滤器→用水点
2.原水→原水增压泵→多介质过滤器→活性炭过滤器→软水器→精密过滤器→反渗透系统→中间水箱→中间水泵→EDI系统→纯化水箱→纯水泵→杀菌消毒→微孔过滤器→用水点
3.原水→原水增压泵→多介质过滤器→活性炭过滤器→软水器→精密过滤器→一级反渗透系统→PH调节→中间水箱→二级反渗透系统→纯化水箱→纯水泵→杀菌消毒→微孔过滤器→用水点
设备特点
1.多介质过滤器（配自动冲洗控制阀）：降低水质浊度，去除铁、锰等杂质；
2.活性炭过滤器（配自动冲洗控制阀）：吸附水中余氯及有机物等；
3.软化过滤器（配自动冲洗再生装置）：清除钙镁等离子，降低原水硬度；
4.保安过滤器：精密处理水中杂质，深层过滤，提升RO膜进水水质等；
5.RO膜处理板块：采用进口反渗透膜部件，有效去除离子、、热源等；
6.纯水供应部分：全循环恒压供水组成。
技术参数
产水水质：符合*共和国消毒供应中心WS310.1\2\3-2009和2005版本药典纯化水标准及GMP标准；
电阻率：≥0.5MΩ.CM
电导率：≤2μS
氨≤0.3μg/ml
硝酸盐≤0.06μg/ml
重金属≤0.5μg/ml
微生物 10CFU/100ml

反渗透设备反洗工艺
反渗透设备因为一些产品使用的材料强度不够及其耐侵蚀性差，造成横轴断裂等设备故障，并且膜的种类不同对进水水质要求也有所不同。膜两侧有一个压力差，如水处理设备中应用广泛的格栅除污机，因为一些产品使用的材料强度不够及其耐侵蚀性差，反渗透设备造成横轴断裂等设备故障，还不包括因为维修影响运行造成的损失，严重影响了环境保护投资效益，还会使反渗透膜表面极易结垢，采用反渗透膜壳可以有效的保护膜元件。
全自动反渗透设备
全自动反渗透设备
反渗透设备安装注意事项
1、设备应采用旁通式安装，以便设备在不停机状态下检修与维护。
2、本设备可根据现场情况采用水平或垂直安装，设备必须按进出水口方向与管道连接，当垂直安装时，设备进水口朝上，水平安装时，排污口朝下。

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超纯水设备主要用途：
　超纯水设备主要用于微电子产品生产用高纯水，半导体、显象管制造业用超纯水，集成电路板生产清洗用超纯水，蓄电池、锂电池、太阳能电池、干电池等生产用纯水，高纯水，超纯水的制备。
超纯水设备概述：
    超纯水设备主要在半导体、集成电路芯片及封装、液晶显示、高精度线路板、光电器件、各种电子器件、微电子工业、大规模、超大规模集成电路需用大量的纯水、高纯水、超纯水清洗半成品、成品。集成电路的集成度越高，线宽越窄，对水质的要求也越高。目前我国电子工业部把电子级水质技术分为五个行业等级，分别为18MΩ.cm、15MΩ.cm、10MΩ.cm、2MΩ.cm、0.5MΩ.cm，以区分不同水质。
超纯水设备特点：
   超纯水设备通常由多介质过滤器，活性碳过滤器，钠离子软化器、精密过滤器等构成预处理系统、RO反渗透主机系统、离子交换混床（EDI电除盐系统）系统等构成主要设备系统。原水箱、中间水箱、RO纯水水箱、超纯水水箱均设有液位控制系统、高低压水泵均设有高低压压力保护装置、在线水质检测控制仪表、电气采用PLC可编程控制器，真正做到了无人值守，同时在工艺选材上采用推荐和客户要求相统一的方法，使该设备与其它同类产品相比较，具有更高的性价比和设备可靠性。

水质：出水水质>15MΩ.cm
用途:半导体、集成电路芯片及封装、液晶显示、高精度线路板、光电器件、各种电子器件、微电子工业、大规模、超大规模集成电路需用大量的高纯水、超纯水清洗半成品、成品。集成电路的集成度越高，对水质的要求也越高。目前我国电子工业部把电子级水质技术分为五个行业标准，分别为18MΩ.cm、15MΩ.cm、10MΩ.cm、2MΩ.cm、0.5MΩ.cm，以区分不同水质。  超纯水设备,超纯水设备,硅片超纯水设备
    半导体（semiconductor），指常温下导电性能介于导体与绝缘体之间的材料。半导体材料很多，按化学成分可分为元素半导体和化合物半导体两大类。锗和硅是常用的元素半导体；化合物半导体包括Ⅲ-Ⅴ族化合物：化镓、磷化镓等；Ⅱ-Ⅵ族化合物：硫化镉、硫化锌等；氧化物：锰、铬、铁、铜的氧化物，以及由Ⅲ-Ⅴ族化合物和Ⅱ-Ⅵ族化合物组成的固溶体：镓铝、镓磷等。除上述晶态半导体外，还有非晶态的玻璃半导体、有机半导体等。
光电材料生产、加工、清洗；液晶显示屏、离子显示屏、灯管显像管、微电子工业、FPC/PCB线路板、电路板、大规模、超大规模集成电路需用大量的高纯水、超纯水清洗半成品、成品。集成电路的集成度越高，对水质的要求也越高，这也对超纯水处理工艺及产品的简易性、自动化程度、生产的连续性、可持续性等提出了更加严格的要求。
半导体超纯水设备，超纯水设备，超纯水处理设备，我们公司生产反渗透＋EDI超纯水设备，有多年的生产经验，做过各行业的水处理设备，水处理方面我们有丰富的经验。
半导体超纯水设备制备工艺：
1、预处理系统→反渗透系统→中间水箱→粗混合床→精混合床→纯水箱→纯水泵→紫外线杀菌器→抛光混床→精密过滤器→用水点（≥18MΩ.CM）(传统工艺) 
  　 2、预处理→反渗透→中间水箱→水泵→EDI装置→纯化水箱→纯水泵→紫外线杀菌器→抛光混床→0.2或0.5μm精密过滤器→用水点（≥18MΩ.CM）(工艺) 
　　3、预处理→一级反渗透→加药机（PH调节）→中间水箱→第二级反渗透（正电荷反渗膜）→纯水箱→纯水泵→EDI装置→紫外线杀菌器→0.2或0.5μm精密过滤器→用水点（≥17MΩ.CM）(工艺) 
　　4、预处理→反渗透→中间水箱→水泵→EDI装置→纯水箱→纯水泵→紫外线杀菌器→0.2或0.5μm精密过滤器→用水点（≥15MΩ.CM）(工艺) 
　　5、预处理系统→反渗透系统→中间水箱→纯水泵→粗混合床→精混合床→紫外线杀菌器→精密过滤器→用水点 （≥15MΩ.CM）(传统工艺)
水质标准：
半导体超纯水设备，超纯水设备，超纯水处理设备出水水质符合美国ASTM纯水水质标准、我国电子工业电子级水质技术标准（18MΩ.cm、15MΩ.cm、10MΩ.cm、2MΩ.cm、0.5MΩ.cm）我国电子工业超纯水水质试行标准、半导体工业用纯水指标、集成电路水质标准。
半导体超纯水设备，超纯水设备，超纯水处理设备的应用领域：
电解电容器生产铝箔及工作件的清洗；　 超纯水设备,超纯水设备,硅片超纯水设备
电子管生产、显像管和阴极射线管生产配料用纯水；
黑白显像管荧光屏生产、玻壳清洗、沉淀、湿润、洗膜、管颈清洗用纯水；
生产液晶显示器的屏面需用纯水清洗和用纯水配液；
晶体管生产中纯水主要用于清洗硅片；
集成电路生产中高纯水清洗硅片；
半导体材料、器件、印刷电路板和集成电路用纯水；
半导体材料、晶元材料生产、加工、清洗；
显像管、萤光粉生产；
汽车、家电表面抛光处理。
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