贵州反渗透纯水设备制造厂 大流量处理能力

贵州反渗透设备，反渗透设备的故障排除
反渗透设备在长期的工作之后，不可避免的出现一些问题，而这些问题大多是使用者操作不当引起的，那么现在由小编向大家介绍一下反渗透设备因操作不当引起的故障分析。
1、反渗透设备的关机
(1)关机时快速降压没有进行彻底冲洗，因为膜浓水侧的无机盐的浓度高于原水，容易结垢而被污染膜。
(2)因为化学试剂的水在设备停运期间可能引起膜污染，所以用投加化学试剂的预处理水冲洗。反渗透设备在准备关机时，应该停止投加化学试剂，逐渐降压至3bar左右用与处理好的水冲洗十分钟，直到浓缩水的TDS与原水的TDS很接近为止。
2、反渗透设备消毒和保养
因为聚酰胺膜耐余氯性较差，且在使用的过程中没有正确的投加氯等消毒机，加上用户对微生物的预防重视不够，容易造成微生物的污染，所以聚酰胺膜使用中普遍存在的问题。
3、盐透过率高，产水量满意或者是稍高，每段之间的压力差基本不变。
(1)膜元件或者是压力容器上型圈漏水。
(2)膜元件袋粘合线破裂，膜元件中心管破裂或者是膜元件机械损。
(3)系统运行有水锤产生。
面对本问题的解决方法：
1、更换在膜元件或者是容器上已经损或者是产生漏流O型圈。
2、对于破损膜元件进行替换。
3、检查给水压力，产品水压以及膜元件在运行的压力降是否合适，并且调整。
4、设计和运行条件和系统驱动程序。
本现象主要表现在出厂时，反渗透设备设有采用消毒液保养，设备安装好之后没有对整个管路和预处理设别消毒，间断的不采取消毒和保养措施，同时没有定期的对预处理设备和反渗透设备消毒，保养液失效或者是浓度不够。

纯化水设备是采反渗透除盐技术对水进行处理，使出水水质符合GMP认证标准，符合中国药典2010年版纯化水标准。莱特莱德上海水处理公司生产的纯化水设备的核心元件是进口的复合膜，又采两级杀菌消毒技术对水进行处理，从而将水中的分子、离子、热源、胶体微生物等有害物质彻底分离，从未达到净化水的目的。
纯化水设备工艺流程
1、原水→原水加压泵→多介质过滤器→活性炭过滤器→软水器→精密过滤器→一级反渗透设备→中间水箱→中间水泵→离子交换器→纯化水箱→纯水泵→紫外线杀菌器→微孔过滤器→水点
2、原水→原水加压泵→多介质过滤器→活性炭过滤器→软水器→精密过滤器→级反渗透→PH调节→中间水箱→第二级反渗透(反渗透膜表面带正电荷)→纯化水箱→纯水泵→紫外线杀菌器→微孔过滤器→水点
3、原水→原水加压泵→多介质过滤器→活性炭过滤器→软水器→精密过滤器→一级反渗透机→中间水箱→中间水泵→EDI系统→纯化水箱→纯水泵→紫外线杀菌器→微孔过滤器→水点
纯化水设备的特点
1、产水符合2010版药典纯化水标准，可符合GMP标准。
2、直接自来水制成土无菌超纯水，能完全替代蒸馏水及双蒸水。
3、纯化水设备采进口泵、反渗膜等部件。
4、采进口仪表，能对水质准确、连续分析、显示。
5、纯化水设备全自动操作系统，自动冲洗。

水质：出水水质>15MΩ.cm
用途:半导体、集成电路芯片及封装、液晶显示、高精度线路板、光电器件、各种电子器件、微电子工业、大规模、超大规模集成电路需用大量的高纯水、超纯水清洗半成品、成品。集成电路的集成度越高，对水质的要求也越高。目前我国电子工业部把电子级水质技术分为五个行业标准，分别为18MΩ.cm、15MΩ.cm、10MΩ.cm、2MΩ.cm、0.5MΩ.cm，以区分不同水质。  超纯水设备,超纯水设备,硅片超纯水设备
    半导体（semiconductor），指常温下导电性能介于导体与绝缘体之间的材料。半导体材料很多，按化学成分可分为元素半导体和化合物半导体两大类。锗和硅是常用的元素半导体；化合物半导体包括Ⅲ-Ⅴ族化合物：化镓、磷化镓等；Ⅱ-Ⅵ族化合物：硫化镉、硫化锌等；氧化物：锰、铬、铁、铜的氧化物，以及由Ⅲ-Ⅴ族化合物和Ⅱ-Ⅵ族化合物组成的固溶体：镓铝、镓磷等。除上述晶态半导体外，还有非晶态的玻璃半导体、有机半导体等。
光电材料生产、加工、清洗；液晶显示屏、离子显示屏、灯管显像管、微电子工业、FPC/PCB线路板、电路板、大规模、超大规模集成电路需用大量的高纯水、超纯水清洗半成品、成品。集成电路的集成度越高，对水质的要求也越高，这也对超纯水处理工艺及产品的简易性、自动化程度、生产的连续性、可持续性等提出了更加严格的要求。
半导体超纯水设备，超纯水设备，超纯水处理设备，我们公司生产反渗透＋EDI超纯水设备，有多年的生产经验，做过各行业的水处理设备，水处理方面我们有丰富的经验。
半导体超纯水设备制备工艺：
1、预处理系统→反渗透系统→中间水箱→粗混合床→精混合床→纯水箱→纯水泵→紫外线杀菌器→抛光混床→精密过滤器→用水点（≥18MΩ.CM）(传统工艺) 
  　 2、预处理→反渗透→中间水箱→水泵→EDI装置→纯化水箱→纯水泵→紫外线杀菌器→抛光混床→0.2或0.5μm精密过滤器→用水点（≥18MΩ.CM）(工艺) 
　　3、预处理→一级反渗透→加药机（PH调节）→中间水箱→第二级反渗透（正电荷反渗膜）→纯水箱→纯水泵→EDI装置→紫外线杀菌器→0.2或0.5μm精密过滤器→用水点（≥17MΩ.CM）(工艺) 
　　4、预处理→反渗透→中间水箱→水泵→EDI装置→纯水箱→纯水泵→紫外线杀菌器→0.2或0.5μm精密过滤器→用水点（≥15MΩ.CM）(工艺) 
　　5、预处理系统→反渗透系统→中间水箱→纯水泵→粗混合床→精混合床→紫外线杀菌器→精密过滤器→用水点 （≥15MΩ.CM）(传统工艺)
水质标准：
半导体超纯水设备，超纯水设备，超纯水处理设备出水水质符合美国ASTM纯水水质标准、我国电子工业电子级水质技术标准（18MΩ.cm、15MΩ.cm、10MΩ.cm、2MΩ.cm、0.5MΩ.cm）我国电子工业超纯水水质试行标准、半导体工业用纯水指标、集成电路水质标准。
半导体超纯水设备，超纯水设备，超纯水处理设备的应用领域：
电解电容器生产铝箔及工作件的清洗；　 超纯水设备,超纯水设备,硅片超纯水设备
电子管生产、显像管和阴极射线管生产配料用纯水；
黑白显像管荧光屏生产、玻壳清洗、沉淀、湿润、洗膜、管颈清洗用纯水；
生产液晶显示器的屏面需用纯水清洗和用纯水配液；
晶体管生产中纯水主要用于清洗硅片；
集成电路生产中高纯水清洗硅片；
半导体材料、器件、印刷电路板和集成电路用纯水；
半导体材料、晶元材料生产、加工、清洗；
显像管、萤光粉生产；
汽车、家电表面抛光处理。

矿泉水设备技术是一种以筛分为分离原理、以压力为推动力的膜分离过程，过滤精度在0.005-0.01um范围内，可有效去除水中的微粒、胶体、及高分子有机物等。可广泛应用于物质的分离、浓缩、提纯。超滤过程无相转化、具有良好的耐温、耐酸碱和耐氧化性能。超滤膜采用不同的组建形式、膜材料及工艺设计，可以适应各种不同的水质条件及分离功能。
矿泉水设备是以膜两侧压力差为动力，以机械筛分原理为基础的一种溶液分离，使用压力通常为0.2MPa--0.6MPa分离孔径1nm--0.1μm可广泛应用于物质的分离、浓缩、提纯。超滤过程无相转化，常温操作，对热敏性物质的分离尤为适宜，并具有良好的耐温、耐酸碱和耐氧化性能，能在60℃以下，PH为2-11的条件下长期连续使用。
管式超滤器流通状况好，不易堵塞、易清洗，适用于电泳涂漆回收、果汁浓缩、硅溶胶生产、油水分离等应用中。
卷式超滤器具有:①膜面积大；
②器体结构紧凑；
③安装、维护简单；
④占地少；
⑤较其它超滤器能耗低等优点；
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