黔西南食品加工纯净水设备生产厂家 大流量处理能力

软化水设备主要是降低水的硬度，除去原水中的钙、镁离子。当含有硬度离子的原水通过交换器内树脂层时，钙、镁离子会与树脂中的钠离子发生置换，从而使得交换器内流出的水便是软化水。该设备在运行中也是需要进行定期维护维修的。
软化水设备
其实不只是运行中，就是停用之后，软化水设备也是需要定期维护的。那么要做好该设备的日常维护工作，需要做到以下几点：
1.要定期检查射流器及吸盐管路的气密性，不让漏气而影响到再生。
2.要使输入的电流电压稳定，不让电控装置烧损。电控装置外部应安装密封罩，不得受潮和水浸，还要定期向盐箱内加固体颗粒食盐，而且要使盐箱内的食盐溶液处于饱和状态。由于固体食盐含有杂质，大量的杂质会沉积在盐箱底部，堵塞盐阀，需要定期清理盐箱底部的杂质。
软化水设备盐箱
3.每年还要将软水器拆卸一次，清理上下布水器和石英砂垫层内的杂质，并检查树脂的损耗量和交换能力，更换老化的树脂。
软化水设备树脂
4.软化水设备在长期停用前应对树脂进行一次充沛的再生，将树脂转换成钠型湿法保养，如是冬季，需做好防冻措施，别让树脂内的水分冻结而使树脂破碎，可保存于食盐水溶液中；如是夏季，每月至少要对软水器进行一次冲洗，可不让交换罐内滋生微生物而使树脂发霉。

超纯水设备系统在半导体晶片制造过程中重起到至关重要的作用。在一个生产周期内，一个晶片与超纯水的接触超过35次，在任何一个环节发生供水中断或者水质不合格都会影响晶片的质量，甚至导致产品的报废。水处理之家网认为，稳定可靠的超纯水设备系统是**半导体晶片可持续生产的关键。
一、半导体晶片超纯水设备系统简介
本方案以半导体晶片生产用超纯水设备系统为案例，详细讲解205T/H的超大型超纯水设备系统设计特点、工艺流程、超纯水供水网管设计等。
对于原水中的各种杂质，可以选用的去除方式多种多样，每一种净化设备基于不同的净化原理，对各种杂质的去除效率各不相同，甚至某些设备在去除特定杂质的同时会引起其他杂质数值的上升。超纯水设备系统设计的过程就是在满足水质要求的前提下寻找一个投资与操作优化的净化设备组合方案的过程。不同净化设备对各种杂质的去除效率。对超纯水水质的指标要求：
二、半导体晶片超纯水设备系统设计特点
典型的超纯水设备系统流程可分为部分：预处理、初级制水、精制水。在全球水资源日益匮乏的今日，超纯水的回收再利用已经成为超纯水设备系统设计必不可缺的一部分。一般而言，经工艺机台使用的超纯水除了PH值，电导率，TOC等指标较差外，大部分指标都优于市政供水，只要有针对性地设计一些净化设备，完全可以将超过70％的超纯水供水回收再利用，达到节水环保的目的。当然，回收率越高，其设备投资及操作运行成本也越高。本系统的流程设计充分考虑到工程水质要求高，水量超过250吨小时的特点，各部分的设计兼顾经济性和可操作性，巧妙地将超纯水回收利用系统融合于制备系统。
三、半导体晶片超纯水设备系统工艺流程
自来水—加药—多介质过滤器—常压脱气塔—换热器—10μm过滤器—一级反渗透 —预处理水箱—活性炭过滤器—离子交换器—去离子水箱—紫外线杀菌灯—1μm过滤器—二级反渗透—中间水箱—去有机物紫外线—混床—0.45μm过滤器—膜脱气装置—纯水设备—冷却箱—去有机物紫外线—抛光床—超滤系统—输送管网—用水点
四、半导体晶片超纯水设备系统设计方案
预处理：
1.PAC、NaCl0加药：絮凝剂PAC有助于原水中的胶体粒子和悬浮固体凝集成易被多介质过滤器的大基团，而NaCl0具有杀菌，分解有机物的作用。
2.多介质过滤器：去除原水中经絮凝的胶体粒子和悬浮固体，可通过反冲洗再生。H，S0 加药，常压脱气塔：加H，S0 可将原水中的HC0 一生成C02在常压脱气塔中脱除，常压脱气塔是针对本工程大水量的特点而设计的，可以提高真空膜脱气的除氧效率，减少昂贵的脱气膜组的使用量。
3.热交换器：在冬季原水水温较低时使用热交换器加热反渗透进水以提高反渗透系统的除盐率，保证出水水质。
4.10 u m预过滤器：过滤颗粒杂质，保护反渗透膜。
5.一级反渗透：反渗透对除了溶解气体以外的大部分杂质都有较好的脱除效果。不同材质的反渗透膜操作条件不同，脱除杂质的效率也不同。醋酸纤维(CA)膜。醋酸纤维(CA)膜脱除率比复合(TFC)膜低，本设计用于一级反渗透，作为预处理阶段去除大量离子等杂质之用。反渗透膜需定期加药清洗以去除表面污染及结垢，保证反渗透效率并延长膜的寿命。
6.预处理水箱：储存一级反渗透产水，收集工艺机台使用过的回收纯水。
7.活性炭过滤器：表面具有无数10—10 A微孔的活性炭吸附预处理水尤其是回收纯水中的有机物，并通过反冲洗再生。
8.离子交换塔：离子交换塔包括阳离子树脂床和阴离子树脂床，主要为去除回收纯水中的各种阴阳离子，降低电导率而设计，同时可进一步纯化预处理水，保证水质离子交换树脂定时用酸碱再生后可反复使用。
初级制水：
1.去离子水箱：储存去离子水，调节和平衡预处理系统和初级制水系统的运行。
2.紫外线杀菌：波长254nm的紫外线灯可达到杀菌的作用。
3.1um过滤器：过滤颗粒杂质，保护反渗透膜。
4.二级反渗透： 采用复合(TFC)膜的二级反渗透可去除高达95％ 以上的各种离子和有机物。
5.中间水箱：储存二级反渗透产水，充普通氮气，隔绝空气，以保护水质不受污染。
6.去有机物紫外线： 波长1 85mm 的紫外线灯可分解有机物至二氧化碳和水。
7.混床：不同于离子交换塔中阴阳离子树脂，混床中使用的树脂可以在较低的离子浓度下获得很好的脱除效率，混床出水电阻率已达1 7M Q．cm以上，接近超纯水电阻率要求。
8.0.45um过滤器：去除去离子水中的颗粒杂质，并捕捉水中可能带出的破碎的混床树脂微粒，以保护膜脱气装置的脱气膜不受损害。
9.膜脱气装置：加真空氮气吹扫的膜脱气装置可保证产水中溶氧达到小于lppb的要求，与早期的真空氮气吹扫的填料塔相比，具有脱气率高，占空间小，节省氮气的优点。

1、要求的产水量（每天需要多少水或每小时需要多少水，产水量的大小直接影响价格的高低；
2、原水水源（自来水，地下水井水，河水，湖水...)，除了自来水，其它的水源，建议提供水质报告，水源不一样，处理的工艺也就不一样，价格也会有一定的差异；
3、配置（需要配置还是一般配置，就是指水泵用国产的还是进口的，反渗透膜用海德能的还是陶氏的...），或者是对设备还有其它方面的要求，自动化程度对价格也起着决定的性的作用。
4、控制方式（用PLC全自动控制,机头控制或是手动控制，自动运行)
5、出水水质要达到什么标准，电导率或电阻率要达到多少，有什么用途
反渗透水处理技术的应用及优点--反渗透设备，反渗透设备，反渗透水处理设备
反渗透工艺技术是采用膜分离的水处理技术。随着膜科学研究和制造工艺的进步，反渗透水处理技术得到了迅速的发展。反渗透水处理技术的发展使之在所有水的淡化方式中占有地位，目前全世界范围内的反渗透装置容量每天已超过1200万/吨，20世纪90年代以来，每年仍在以20%的速度递增。反渗透除在苦咸水、海水淡化中使用外，还广泛用于纯水制备、废水处理及饮水、饮料和化工产品的浓缩、回收工艺等多种领域。
反渗透水处理技术基本属于物理方法，它借助物理化学过程，在许多方有传统的水处理方法所没有的优点：
· 反渗透是在室温条件下，采用无相变的物理方法使水得以淡化、纯化。
· 水的处理仅依靠压力作为推动力，其能耗在许多处理方法中。
· 不用大量的化学药剂和酸、碱再生处理。
· 无化学废液及废酸、碱排放、无废酸、碱的中和处理过程，无环境污染。
· 系统简单，操作方便，产品水质稳定，可以取得较高的纯水。
· 适用于较大范围的原水水质，既适用于苦咸水、海水及污水的处理，又适用于低含盐量的淡水处理。
· 设备占地面积小，需要的空间少。
· 运行维护和设备维修量极低。
反渗透用于许多纯水使用部门均有明显的优势，更具有常规的离子交换处理方式难以比拟的优异，如：
· 脱出水中二氧化硅效果好，除去率可达99.5%，避免了水中硅给离子交换树脂带来的再生困难、运行周期短的影响。
· 脱除水中有机物及胶体物质，脱除率可达95%。

1.电子工业超纯水概述
半导体、集成电路芯片及封装、液晶显示、高精度线路板、光电器件、各种电子器件、微电子工业、大规模、超大规模集成电路需用大量的纯水、高纯水、超纯水清洗半成品、成品。集成电路的集成度越高，线宽越窄，对水质的要求也越高。
2.制备电子工业超纯水的工艺流程
采用反渗透设备与电去离子（EDI）设备进行搭配制备电子工业超纯水的的方式，这是一种制取超纯水的工艺，也是一种环保，经济，发展潜力巨大的超纯水制备工艺.
其基本工艺流程为：原水→多介质过滤器→活性炭过滤器→精密过滤器→中间水箱→反渗透设备→电去离子（EDI）→超纯水箱→超纯水泵→后置保安过滤器→用水点
3.电子工业超纯水的应用领域
半导体材料、器件、印刷电路板和集成电路成品、半成品用超纯水 
超纯材料和超纯化学试剂勾兑用超纯水； 
光学玻璃镀膜、光电子及光纤 
超纯材料和超纯化学试剂 
汽车、家电表面抛光处理；
光电子产品；
其他高科技精微产品；
4设备特点： 
按需定制，柔性生产 
技术，品质稳定 
占地节省，维护简易
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