黔南纯水设备定制 增加清洁效果

纯净水设备采用的是反渗透技术，以压力作为推动力去除水中的有机物、胶体、等杂质，在加上一定的预处理过程达到净水效果。预处理过程能够有效的去除水中的大颗粒等杂质，不但提高了设备的出水水质，还有效的保护了后面的反渗透膜，延长了使用的寿命。本文将介绍下纯净水设备的相关知识。
纯净水设备水质标准
电阻率：≥0.5MΩ.CM
电导率：≤2μS
氨：≤0.3μg/
硝酸盐：≤0.06μg/
重金属：≤0.5μg/
纯净水设备
纯净水设备
纯净水设备主要组成
纯净水设备主要组成一般包括预处理系统、反渗透装置、后处理系统、清洗系统和电气控制系统等。
预处理系统一般包括原水泵、加药装置、石英砂过滤器、活性炭过滤器、精密过滤器等。其主要作用是降低原水的污染指数和余氯等其他杂质，达到反渗透的进水要求。预处理系统的设备配置应该根据原水的具体情况而定。
纯净水设备反渗透装置主要包括多级高压泵、反渗透膜元件、膜壳(压力容器)、支架等组成。其主要作用是去除水中的杂质，使出水满足使用要求。
后处理系统是在反渗透不能满足出水要求的情况下增加的配置。主要包括阴床、阳床、混床、杀菌、超滤、EDI等其中的一种或者多种设备。后处理系统能把反渗透的出水水质更好的提高，使之满足使用要求。
纯净水设备清洗系统主要有清洗水箱、清洗水泵、精密过滤器组成。当反渗透系统受到污染出水指标不能满足要求时，需要对反渗透进行清洗使之恢复。
电气控制系统是用来控制整个反渗透系统正常运行的。包括仪表盘、控制盘、各种电器保护、电气控制柜等。
纯净水设备图片
纯净水设备图片
纯净水设备特点
1、纯净水设备设计简单。电除盐的模块设计很容易把它的做到500吨/小时甚至更高。实用的设计对于电除盐系统，不管是维修还是增减设备的容量都是很容易的，必须要更换膜堆时，在现场只要花极少的停机时间就可以完成。
2、可连续生产，免除了使用混床过程中复杂的再生操作，减少了很多备用设备。
3、水质稳定，不会有普通混床那样的水质变化。
4、运行成本低，电除盐系统与各种混床相比，运营成本低在价格上有竞争性。
5、安装维修简便，电除盐装置允许通过对其它膜堆的重新分配而达到对某一个膜堆维修的要求，不改变系统的性能。

水质：出水水质>15MΩ.cm
用途:半导体、集成电路芯片及封装、液晶显示、高精度线路板、光电器件、各种电子器件、微电子工业、大规模、超大规模集成电路需用大量的高纯水、超纯水清洗半成品、成品。集成电路的集成度越高，对水质的要求也越高。目前我国电子工业部把电子级水质技术分为五个行业标准，分别为18MΩ.cm、15MΩ.cm、10MΩ.cm、2MΩ.cm、0.5MΩ.cm，以区分不同水质。  超纯水设备,超纯水设备,硅片超纯水设备
    半导体（semiconductor），指常温下导电性能介于导体与绝缘体之间的材料。半导体材料很多，按化学成分可分为元素半导体和化合物半导体两大类。锗和硅是常用的元素半导体；化合物半导体包括Ⅲ-Ⅴ族化合物：化镓、磷化镓等；Ⅱ-Ⅵ族化合物：硫化镉、硫化锌等；氧化物：锰、铬、铁、铜的氧化物，以及由Ⅲ-Ⅴ族化合物和Ⅱ-Ⅵ族化合物组成的固溶体：镓铝、镓磷等。除上述晶态半导体外，还有非晶态的玻璃半导体、有机半导体等。
光电材料生产、加工、清洗；液晶显示屏、离子显示屏、灯管显像管、微电子工业、FPC/PCB线路板、电路板、大规模、超大规模集成电路需用大量的高纯水、超纯水清洗半成品、成品。集成电路的集成度越高，对水质的要求也越高，这也对超纯水处理工艺及产品的简易性、自动化程度、生产的连续性、可持续性等提出了更加严格的要求。
半导体超纯水设备，超纯水设备，超纯水处理设备，我们公司生产反渗透＋EDI超纯水设备，有多年的生产经验，做过各行业的水处理设备，水处理方面我们有丰富的经验。
半导体超纯水设备制备工艺：
1、预处理系统→反渗透系统→中间水箱→粗混合床→精混合床→纯水箱→纯水泵→紫外线杀菌器→抛光混床→精密过滤器→用水点（≥18MΩ.CM）(传统工艺) 
  　 2、预处理→反渗透→中间水箱→水泵→EDI装置→纯化水箱→纯水泵→紫外线杀菌器→抛光混床→0.2或0.5μm精密过滤器→用水点（≥18MΩ.CM）(工艺) 
　　3、预处理→一级反渗透→加药机（PH调节）→中间水箱→第二级反渗透（正电荷反渗膜）→纯水箱→纯水泵→EDI装置→紫外线杀菌器→0.2或0.5μm精密过滤器→用水点（≥17MΩ.CM）(工艺) 
　　4、预处理→反渗透→中间水箱→水泵→EDI装置→纯水箱→纯水泵→紫外线杀菌器→0.2或0.5μm精密过滤器→用水点（≥15MΩ.CM）(工艺) 
　　5、预处理系统→反渗透系统→中间水箱→纯水泵→粗混合床→精混合床→紫外线杀菌器→精密过滤器→用水点 （≥15MΩ.CM）(传统工艺)
水质标准：
半导体超纯水设备，超纯水设备，超纯水处理设备出水水质符合美国ASTM纯水水质标准、我国电子工业电子级水质技术标准（18MΩ.cm、15MΩ.cm、10MΩ.cm、2MΩ.cm、0.5MΩ.cm）我国电子工业超纯水水质试行标准、半导体工业用纯水指标、集成电路水质标准。
半导体超纯水设备，超纯水设备，超纯水处理设备的应用领域：
电解电容器生产铝箔及工作件的清洗；　 超纯水设备,超纯水设备,硅片超纯水设备
电子管生产、显像管和阴极射线管生产配料用纯水；
黑白显像管荧光屏生产、玻壳清洗、沉淀、湿润、洗膜、管颈清洗用纯水；
生产液晶显示器的屏面需用纯水清洗和用纯水配液；
晶体管生产中纯水主要用于清洗硅片；
集成电路生产中高纯水清洗硅片；
半导体材料、器件、印刷电路板和集成电路用纯水；
半导体材料、晶元材料生产、加工、清洗；
显像管、萤光粉生产；
汽车、家电表面抛光处理。

一、工艺流程特点
1、本制水系统分预处理、一级反渗透、精处理二部分组成。预处理采用机械过滤器、活性炭过滤器、5μm保安滤器。其中机械过滤器除杂质和泥沙；活性炭过滤器除有机物和异味； 5μm保安滤器去除大于5μm以上的微粒，保证产水达到反渗透进水的要求。
2、反渗透系统采用美国陶氏的BW型膜元件，能耗低，脱盐率高、产水量大。
二、系统单元设备说明
▲机械过滤器：去除水中的沙子、泥巴、铁锈等悬浮物及部分胶体杂质。
▲活性碳过滤器：去除有机物杂质、部分臭味，除余氯。可防止有机物污染反渗透膜和余氯氧化反渗透膜。
▲5微米保安滤器:去除5微米以上的残余微粒，防止堵塞反渗透膜。
▲一级高压泵：给反渗透装置供水和提供反渗透所需的压力。
▲一级反渗透装置：有效去除分子量在200以上的有机物大分子、有毒有害物质。对离子的去除率大于99%，使产水电导率小于15μs/cm。
▲纯水箱：储存经一级反渗透产纯水，起缓冲作用，使水中二氧化碳气体含量小于5ppm。
▲电控系统：控制整套设备的运行。
省心：
直饮水设备（家用，办公、工厂，商用净水设备）一次投资，长期使用！反渗透水处理机产出安全水，水，新鲜水，您从此不再为水质不佳而担心。
省事：
桶装水需要搬运，更换，等水和结款。纯净水可直接饮水机，可直接生饮。实现即制即饮。时时都是新鲜水。
省钱：
购买桶装水累计也是个不小数目，而直饮水设备可根据人数来定制机型大小。一定比桶装实惠，健康、安全。
其耗电量低，成本经济，反渗透直饮水设备已成为单位、工厂饮水。

反渗透装置（简称RO装置）在除盐系统中属关键设备，装置利用膜分离技术除去水中大部份离子、SiO2等，大幅降低TDS、减轻后续除盐设备的运行负荷。RO是将原水中的一部分沿与膜垂直的方向通过膜，水中的盐类和胶体物质将在膜表面浓缩，剩余一部分原水沿与膜平行的方向将浓缩的物质带走，在运行过程中自清洗。膜元件的水通量越大，回收率越高则其膜表面浓缩的程度越高，由于浓缩作用，膜表面处的物质溶度与主体水流中物质浓度不同，产生浓差极化现象。浓差极化会使膜表面盐的浓度高，膜的渗透压，引起盐透过率，和为提高给水的压力而需要多消耗能量，此时应采用清洗的方法进行恢复。
一、结构形式：
反渗透装置由复合膜元件、玻璃钢压力容器、碳钢滑架和仪表控制柜组成。仪表控制柜装备电导、、压力等各种仪表，便于用户随时检测和实现装置运行自动化。
二、性能参数表:
为了保证反渗透装置安全正常的运行，进装置的原水进行适当处理和调整以达到下列指示:
三、装置安装:
反渗透装置的安装必须按下列条件执行：
１．装置运到现场后，应放置于室内，周围环境温度不得低于5℃，不得高于38℃。当温度高于35℃时，应加强通风措施。
２．装置到达后，应在一个月内安装完毕，并应立即进行通水试车运行。
３．装置在未进行通水试车之前，任何阀门均不得开启，以免保护溶液流出，致使元件损坏。
４．装置就位后，应调整装置支承点，使组件处于基本水平的位置，且与基础接触可靠。
５．装置与供水泵相接的管路及阀门在连接之前应进行脱脂处理，供水泵过流部份也应进行脱脂处理。
６．装置的产水输出管大输出高度应小于8米。
注：2、3点仅针对RO装置内已安装膜元件的装置。
四、调试步骤:
1. 对装置的进水进行分析、测试，结果表明符合进水要求，方可进行装置通水调试。
2. 对供水泵的压力控制，水质自动监测系统进行调整。
3. 检查装置所有管道之间连接是否完善、压力表是否齐全、低压管道连接处是否紧密，有否短缺。
4. 开启泵前排放阀，启动预处理设备，并调整至供水量大于装置进水量。
5. 全开各压力表开关和进水阀、浓排阀、产水排放阀。
6. 关闭泵前排放阀，待组件内充满水后，关闭装置进水阀。
7. 待高压泵进口压力大于0.2MPa，启动高压泵，并缓缓开启装置进水阀同时关闭浓排阀，控制装置总压差小于0.3MPa，产水排放2分钟后关闭产排阀，运行15分钟，并查各高、低压管路、仪表是否工作正常。
8. 调整进水阀、浓水出口阀使产水、浓水比例为 3 : 1 。
9. 检测产品水电导率，符合要求时先开启产品水出水阀，再关闭产水排放阀。
10. 调试过程应注意事项:
10-1调试过程中进水压力不得大于1.5MPa。
10-2如进水温度高于、低于25℃时，应根据水温--产水量曲线进行修正，控制回收率为75 ％。
10-3装置连续运行4小时后，脱盐率不能达到设计脱除率应逐一检查装置中每个组件的脱盐率，确定产生故障的组件后加以更换元件。
10-4发现高压管路有漏水需排除时，装置应卸压，严禁高压状况下松动高压接头。
五、装置的运行操作管理:
1．严格控制进水水质，保证装置在符合进水指标要求的水质条件下运行。
2．操作压力控制，应在满足产水量与水质的前提下，取尽量低的压力值，这样有利于降低膜的水通量衰减，减少膜的更换率。
3．进水温度控制，应根据实际用水量，取邻界压力(进水压力低于该值脱盐率产生明显下降的压力值)不能满足产水量与水质要求的至低温度来作为该时间阶段内的进水温度。这样可以降低膜水量的衰减。
4．排放量控制，由于水温、操作压力等因素的变化，使装置的产水量也发生相应的变化，这时应对排放量进行调整，控制排放量与产水量之间比例为1:2.5-1: 3，否则将影响装置的脱盐率。
5．夏季水温偏高的操作对策:
5-1在保证后处理对进水含盐量要求的前提下，降低操作压力。实施减压操作。此对策为优选对策。
5-2根据供水量要求，轮流关停反渗透(限于装有二台以上反渗透的工厂)，但关停时间不得大于(夏季)，否则容易造成膜面孳生，增加压降。
6．装置不得长时间停运，每天至少运行2小时。如准备停机72小时以上，应用化学清洗装置向组件内充装1%亚硫酸氢钠和18%甘油实施保护。
8．反渗透每次停机和启动都应让装置在进水压力小于0.4MPa条件下冲洗15分钟。
9．操作工应在每2小时对运行参数进行记录，主要内容应包括:
进水: PH值、电导率、压力、SDI、水温。
产水: 电导率、、PH。
浓水: 、压力。以及各段进水压力。
10．严禁未经培训人员上岗操作。
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